功耗降90% Intel发现半导体新材料
导 读:
intel公司日前透露,他们在半导体新材料的研究上又取得了重大突破,使用混合元素材料制造出了硅基p-channel晶体管。
该混合材料又被称为groupiii-v材料,因为它包含化学元素周期表中iii族到v族的多种元素,而传统的硅(iv族元素)晶体管也因此被称为groupiv材料。
一年前,intel同样使用groupiii-v材料,制造出了硅基n-channel晶体管。而n-channel和p-channel晶体管正是cmos电路的两大组成部分,因此现在新材料p-channel晶体管的诞生标志着intel已经可以使用groupiii-v新材料制造实际电路。
intel表示,新混合材料制成的p-channel晶体管性能前所未有。和去年研发的新材料n-channel晶体管一起制成的半导体电路,其需要的电压只是现有产品的一半,功耗更是只有当前处理器的十分之一,前景十分广阔。
下一篇:美国建成智能电网监控室,实现电
特别声明:本站的所有文章版权均属于自动化网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品,已经本网授权的文章,应在授权领域内应用,并注明来源为:“自动化网”。。
标题:功耗降90% Intel发现半导体新材料 地址:http://www.zgshouguang.cn/article/4986.html
